氯化钠盐粒覆盖下铜的腐蚀行为
程庆利; 侯保荣
2013-12-15
发表期刊材料保护
期号12页码:20-23+7
摘要通过失重法和电化学阻抗谱技术,研究铜表面NaCl盐粒分别沉降70,280,560μg/cm2时的腐蚀行为。结果表明:铜的腐蚀速度随着盐粒沉降量的增加而增大,起始1 h时内腐蚀过程受氧扩散控制的影响,腐蚀速度大小顺序为560μg/cm2>70μg/cm2>280μg/cm2;72 h时,由于电极表面腐蚀产物和残余电解液膜的影响,其腐蚀速度大小为70μg/cm2>560μg/cm2>280μg/cm2;在整个腐蚀阶段,电流不均匀地分布在电极表面,当NaCl在盐粒沉降量为280,560μg/cm2时,其阻抗谱符合传输线模型。
关键词氯化钠腐蚀 腐蚀速率 盐粒沉降 阻抗谱
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.qdio.ac.cn/handle/337002/16963
专题海洋环境腐蚀与生物污损重点实验室
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GB/T 7714
程庆利,侯保荣. 氯化钠盐粒覆盖下铜的腐蚀行为[J]. 材料保护,2013(12):20-23+7.
APA 程庆利,&侯保荣.(2013).氯化钠盐粒覆盖下铜的腐蚀行为.材料保护(12),20-23+7.
MLA 程庆利,et al."氯化钠盐粒覆盖下铜的腐蚀行为".材料保护 .12(2013):20-23+7.
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